AlF3(フッ化アルミニウム)の特性

2011年5月8日更新

AlF3は紫外域から中赤外域にかけて使われる材料で、特に紫外域や深紫外域における低屈折率材料として注目される物質です。材料そのものもあまり硬いものではないため、電子ビームでの照射ではなく、抵抗加熱でも成膜可能です。

膜特性(AlF3 フッ化アルミニウム)
屈折率 1.38(550 nm近辺)
使用波長域 0.2 μm〜12
蒸発方法 RH(抵抗加熱)
蒸発源材料 タングステン、タンタル、モリブデン、白金
蒸発タイプ 昇華
膜質 非晶質、軟らかい
応力 弱い引っ張り
主な用途 紫外域用の各種成膜
AlF3の材料特性(一般的なバルクの物性値)
理論密度 2.88g/cm3
融点 1040℃
沸点 1260℃
性質 水溶性:可溶
可溶(温水)、難溶(冷水)※1
結晶構造 三方晶系 VF3型 約450℃以上では立方晶(ReO3型)、ほかに正方晶の相が複数ある ※2
抵抗率ρ/10^-8Ωm -
誘電率、比誘電率εγ -
熱膨張係数 比熱 20.62  T(℃)127° ※3
熱伝導率(cal/cm/sec/℃) -
比熱(cal/℃/mole) -
外観 白色
CAS-NO 7784-18-1
輸送情報 輸出貿易管理令(リスト規制非該当)

参照文献

  • ※1:[日本化学会編,“化学便覧 基礎編 改訂5版”,丸善(2005),p.T-157]
  • ※2:[日本化学会編,“化学便覧 基礎編 改訂5版”,丸善(2005),p.U-836]
  • ※3:生産現場における光学薄膜の設計・作製・評価技術 監修/小倉繁太郎 技術情報協会 2001年1月22日 第7章第11節『紫外線波長用フィルター』p266-267 小倉繁太郎

専門誌等で発表されているAlF3の薄膜に関する研究論文

掲載誌 APPLIED OPTICS Vol. 44, No. 34 1 December 2005 pp.7333-
タイトル "Characterization of AlF3 thin films at 193nm by thermal evaporation"
著者 Cheng-Chung Lee, Ming-Chung Liu, Masaaki Kaneko, Kazuhide Nakahira, and Yuuichi Takano
概要 抵抗加熱で成膜したAlF3膜について、基板温度、蒸着レート、アニール処理の違いより、193nm波長における光学的特性や膜の微細構造、応力などの機械的特性、レーザー損傷閾値がどのように変化するのか実証した研究

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