YF3(フッ化イットリウム)の特性

2011年5月8日更新

YF3 (フッ化イットリウム)は、約200nmから14μm程度を透過波長域とする低屈折率材料の一つです。赤外領域での良好な透過率を持つことから、赤外域用の光学部品にも使われます。耐湿性、機械的強度の向上などには成膜技術上の課題が残ります。特定の水吸収帯域を持つことが知られています。

膜特性(YF3 フッ化イットリウム)
屈折率 1.5(550nm近辺) ※3
使用波長域 0.2-14μm ※3
蒸発方法 EB(電子ビーム)、抵抗加熱
蒸発源材料 モリブデン
蒸発タイプ -
膜質 -
応力 引っ張り
主な用途 IR膜
YF3の材料特性(一般的なバルクの物性値)
理論密度 5.07g/cm3
融点 1152℃
沸点 2230℃
性質 不溶(水)、分解(濃酸) ※1
結晶構造 斜方 YF3型 高温で六方晶に転移 ※2
抵抗率ρ/10^-8Ωm -
誘電率、比誘電率εγ -
熱膨張係数 -
熱伝導率(cal/cm/sec/℃) -
比熱(cal/℃/mole) -
外観 白色
CAS-NO
輸送情報 輸出貿易管理令(リスト規制非該当)

参照文献

  • ※1:[日本化学会編,“化学便覧 基礎編 改訂5版”,丸善(2005),p.T-358]
  • ※2:[日本化学会編,“化学便覧 基礎編 改訂5版”,丸善(2005),p.U-836]
  • ※3:光学薄膜と成膜技術 李正中 署 株式会社アルバック訳 アグネ技術センター2005年8月30日初版第三刷

専門誌等で発表されているYF3の薄膜に関する研究論文

掲載誌 Journal of Materials Science Letters Volume 11, Number 2, Jan 1992 page94-9
タイトル "Laser-Induced damage study on vacuum evaporated YF3 thin films"
著者 -
概要 -
掲載誌 Proc. SPIE 2253, 195-203(1994)
タイトル "Optical and structural properties of YF3 thin films prepared by ion assisted deposition or ion beam sputtering techniques"
著者 J.Y.Robic, V.Muffato, P.Chaton, M.Ida and M.Berger
概要 -

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