化学蒸着とは
化学蒸着とは、化学的気相法もしくはＣＶＤと呼ばれる成膜手法の一種です。薄膜を製造する技術のうち、膜の出発材料が気体（ガス）となっており、これを装置内で反応させて、物体の表面に膜をつけていきます。薄膜の中でも特に薄い膜を均一に製造でき、かつ材料もガスの反応を使うため、非常に高い純度の膜を作ることが出来ます。このため、半導体用途や工具の耐摩耗性向上のための薄膜製造用途としてよく使われていますが、材料をはじめから気体にしておく必要があり、かつこのガスを反応させることではじめて薄膜にすることができるため、材料の種類がある程度限られてくるのがネックです。材料がガスとなっているため、複雑に入り組んだ形状のものでも、比較的成膜しやすく、また成膜速度が速いため、大量生産にも向いています。
蒸着という言葉が多くはＰＶＤ（物理的気相法）の一種を表しているため、誤解を避けるためにCVDと呼ばれることが多いようです。
薄膜の特性【参考】
主として光学膜や機能膜として用いられる薄膜の代表的な特性、物性について紹介します。
酸化物の薄膜
- Al2O3（酸化アルミニウム、アルミナ）
- CeO2（酸化セリウム）
- Cr2O3（酸化クロム）
- Ga2O3（酸化ガリウム）
- HfO2（酸化ハフニウム、ハフニア）
- NiO（酸化ニッケル）
- MgO（酸化マグネシウム、マグネシア）
- I.T.O（Ｉｎ２Ｏ３＋ＳｎＯ２）酸化インジウムスズ
- Nb2O5（五酸化ニオブ）
- Ta2O5（五酸化タンタル）
- Y2O3（酸化イットリウム、イットリア）
- WO3（酸化タングステン）
- TiO（一酸化チタン）
- Ti3O5（五酸化チタン）
- TiO2（二酸化チタン、チタニア）
- ZnO（酸化亜鉛）
- ZrO2+TiO2（複合酸化物）
- ZrO2（酸化ジルコニウム、ジルコニア）
フッ化物の薄膜
- AlF3（フッ化アルミニウム）
- CaF2（フッ化カルシウム）
- CeF3（フッ化セリウム）
- LaF3（フッ化ランタン）
- LiF（フッ化リチウム）
- NaF（フッ化ナトリウム）
- MgF2（フッ化マグネシウム）
- NdF3（フッ化ネオジウム）
- SmF3（フッ化サマリウム）
- YbF3（フッ化イッテルビウム）
- YF3（フッ化イットリウム）
- GdF3（フッ化ガドリニウム）
窒化膜
炭化膜
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