NaF（フッ化ナトリウム）の特性
| 屈折率 | 1.34(550nm) ※４ |
|---|---|
| 使用波長域 | 0.13-15μm ※４ |
| 蒸発方法 | - |
| 蒸発源材料 | - |
| 蒸発タイプ | - |
| 膜質 | 結晶質、やわらかく水に可溶 ※５ |
| 応力 | 弱い引っ張り |
| 主な用途 | - |
| 理論密度 | 2.78g/cm3 |
|---|---|
| 融点 | 988℃ |
| 沸点 | 1704℃ ※１ |
| 性質 | 水溶性：可溶 |
| 結晶構造 | 正方晶系 NaCl型 ※２ |
| 抵抗率ρ/10^-8Ωm | |
| 誘電率、比誘電率εγ | |
| 熱膨張係数 | 36 x 10^-6 ※３ |
| 熱伝導率（cal/cm/sec/℃） | 5.05 x 10^-2 ※３ |
| 比熱(cal/℃/mole) | 11.85 127T(℃) ※３ |
| 外観 | 白色 |
| CAS-NO | |
| 輸送情報 | 輸出貿易管理令（リスト規制非該当） |
参照文献
- ※１：［日本化学会編，“化学便覧 基礎編 改訂5版”，丸善（2005），p.Ⅰ-262］
- ※２：［日本化学会編，“化学便覧 基礎編 改訂5版”，丸善（2005），p.Ⅱ-836］
- ※３：生産現場における光学薄膜の設計・作製・評価技術 監修/小倉繁太郎 技術情報協会 2001年1月22日 第7章第11節『紫外線波長用フィルター』p266-267 小倉繁太郎
- ※４：光学薄膜と成膜技術 李正中 署 株式会社アルバック訳 アグネ技術センター２００５年８月３０日初版第三刷
- ※５：PPLIED OPTICS Vol.18, No.12 / 15 June 1979 "Characterization of optical thin films" H.K.Pulker
専門誌等で発表されているNaFの薄膜に関する研究論文
| 掲載誌 | |
|---|---|
| タイトル | |
| 著者 | |
| 概要 |
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薄膜の材料特性
酸化物の薄膜
- Al2O3（酸化アルミニウム、アルミナ）
- CeO2（酸化セリウム）
- Cr2O3（酸化クロム）
- Ga2O3（酸化ガリウム）
- HfO2（酸化ハフニウム、ハフニア）
- NiO（酸化ニッケル）
- MgO（酸化マグネシウム、マグネシア）
- I.T.O（Ｉｎ２Ｏ３＋ＳｎＯ２）酸化インジウムスズ
- Nb2O5（五酸化ニオブ）
- Ta2O5（五酸化タンタル）
- Y2O3（酸化イットリウム、イットリア）
- WO3（酸化タングステン）
- TiO（一酸化チタン）
- Ti3O5（五酸化チタン）
- TiO2（二酸化チタン、チタニア）
- ZnO（酸化亜鉛）
- ZrO2+TiO2（複合酸化物）
- ZrO2（酸化ジルコニウム、ジルコニア）
フッ化物の薄膜
- AlF3（フッ化アルミニウム）
- CaF2（フッ化カルシウム）
- CeF3（フッ化セリウム）
- LaF3（フッ化ランタン）
- LiF（フッ化リチウム）
- NaF（フッ化ナトリウム）
- MgF2（フッ化マグネシウム）
- NdF3（フッ化ネオジウム）
- SmF3（フッ化サマリウム）
- YbF3（フッ化イッテルビウム）
- YF3（フッ化イットリウム）
- GdF3（フッ化ガドリニウム）
