LaF3(フッ化ランタン)の特性

2011年5月8日更新

LaF3(フッ化ランタン)は、深紫外、真空紫外域で有用な数少ない材料の一つで、概ね130nm〜10μmを透過波長域とします。真空紫外での数少ない比較的高屈折の材料でもあります。基板温度、蒸着レートがN値をはじめ、レーザー損傷閾値(LIDT)、光学的損失(吸収、散乱など)に影響を与えることが知られています。膜質は比較的硬く、結晶質の柱状構造を形成します。

膜特性(LaF3 フッ化ランタン)
屈折率 1.59(550 nm近辺)
使用波長域 0.22 〜 2μm
蒸発方法 抵抗加熱
蒸発源材料 モリブデン、タンタル、タングステン
蒸発タイプ 溶融蒸発型
膜質 結晶質、やや硬い
応力 引っ張り(初期引っ張り、堆積すると圧縮)
主な用途 反射防止膜、紫外域、短波長域用の光学部品各種
LaF3の材料特性(一般的なバルクの物性値)
理論密度 5.9g/cm3
融点 1490℃
沸点 2300℃
性質 水溶性:不溶
耐薬品性(酸、アルカリ):酸に難溶
結晶構造 三方晶系 LaF3型 六方晶とする報告もある。Laはhcp配列をし、9個のFが配位、Fは3個のLaと結合 ※1
抵抗率ρ/10^-8Ωm -
誘電率、比誘電率εγ -
熱膨張係数 4.6 x 10^-6 ※4
熱伝導率(cal/cm/sec/℃) 1.22 x 10^-2 ※4
比熱(cal/℃/mole) -
外観 白色
CAS-NO 13709-38-1
輸送情報 輸出貿易管理令(リスト規制非該当)

参照文献

  • ※1:[日本化学会編,“化学便覧 基礎編 改訂5版”,丸善(2005),p.U-836]
  • ※2:生産現場における光学薄膜の設計・作製・評価技術 監修/小倉繁太郎 技術情報協会 2001年1月22日 第7章第11節『紫外線波長用フィルター』p266-267 小倉繁太郎

専門誌等で発表されているLaF3の薄膜に関する研究論文

掲載誌 Thin Solid Films vol.492 (2005) p.45-51
タイトル "Microstructure related properties of lanthanum fluoride films deposited by molybdenum boat evaporation at 193 nm"
著者 Ming-Chung Liu, Cheng-Chung Lee, Masaaki Kaneko, Kazuhide Nakahira, Yuuichi Takano
概要 抵抗加熱による真空蒸着で成膜したLaF3の単層膜について、蒸着レート、基板温度をそれぞれ変えることで微細構造(表面粗さ、結晶構造、膜断面形態)、光学特性(屈折率、光学的損失)、機械的特性(応力)、レーザー損傷閾値(LIDT)がどのように変化するのか調査した研究論文
掲載誌 APPLIED OPTICS Vol.44, No.32 / 10 November 2005
タイトル "Influence of thermal annealing and ultraviolet light irradiation on LaF3 thin films at 193nm"
著者 Cheng-Chung Lee, Ming-Chung Liu, Masaaki Kaneko, Kazuhide Nakahira, and Yuuichi Takano
概要 同一の基板温度、蒸着レート、真空度のもとでEB蒸着したLaF3と抵抗加熱蒸着したLaF3について、アニール処理またはUV照射した場合の 193nmにおけるレーザー損傷閾値(LIDT)、膜の微細構造、光学特性、光学的損失、応力、表面粗さの変化についての研究論文
掲載誌 APPLIED OPTICS Vol.41, No.16 / 1 June 2002
タイトル "Ultraviolet optical and microstructural properties of MgF2 and LaF3 coatings deposited by ion-beam sputtering and boat and electron-beam evaporation"
著者 Detlev Ristau, Stefan Gunster, Salvador Bosch, Angela Duparre, Enrico Masetti, Josep Ferre-Borrull, George Kiriakidis, Francesca Peiro, Etienne Quesnel, and Alexander Tikhonravov
概要 溶融石英とCaF2基板上に、イオンビームスパッタリングと電子ビーム蒸着(EB蒸着)で成膜したMgF2とLaF3の単層膜について、条件ごとの膜構造、膜組成(蒸着手法ごとのフッ素比率)、屈折率、散乱、表面粗さ、応力を比較調査した研究論文
掲載誌 APPLIED OPTICS vol.24, No.4 /15 February 1985
タイトル "Materials for optical coatings in the ultraviolet"
著者 Frank Rainer, W.Howard Lowdermilk, David Milam, Charles K.Carniglia, Trudy Tuttle Hart, and Terri L.Lichtenstein
概要 ZrO2,Na3AlF6,ThO2,Y2O3,HfO2,Sc2O3,MgO,Al2O3,YF3,NaF,LiF,MgF2,LaF3,SiO2,ThF4 の各物質についての紫外域でのレーザー損傷閾値LIDT(2物質の組み合わせを含む)について調査した研究論文
掲載誌 APPLIED OPTICS vol.29, No.28 /1 October 1990
タイトル "Vacuum ultraviolet thin films. 1: Optical constants of BaF2, CaF2, LaF3, MgF2, Al2O3, HfO2, and SiO2 thin films"
著者 Muamer Zukic, Douglas G.Torr, James F.Spann, and Marsha R.Torr
概要 MgF2(バルクと薄膜),BaF2,CaF2,LaF3,MgF2,Al2O3,HfO2,SiO2の各薄膜について、120-230nmのVUV領域(真空紫外域)における光学特性についての研究論文

スポンサーリンク

>「LaF3(フッ化ランタン、Lanthanum Fluoride)の特性」についての先頭へ

LaF3(フッ化ランタン、Lanthanum Fluoride)の関連記事

LaF3(フッ化ランタン)のメーカー一覧
受託成膜や成膜サービスを行っている企業の一覧
蒸着材料のメーカー一覧
スパッタリングターゲットのメーカー一覧
CVD材料のメーカー一覧
溶射材料のメーカー一覧

薄膜の材料特性

酸化物の薄膜

フッ化物の薄膜

窒化膜

炭化膜

このサイトについて

当サイトの記事はすべて工業製品のメーカーの実務経験者が執筆しています。

砥石メーカーの製品や技術を紹介するサイトとしてはじまりましたが、加工技術・工具・研削・研磨に関わる情報から派生し、ユーザーの問い合わせに応じて鉄鋼、非鉄、貴金属、セラミックス、プラスチック、ゴム、繊維、木材、石材等製造に使用する材料・ワークの基礎知識についても掲載するようになりました。その後、技術情報に限らず、製造業で各分野の職種・仕事を進めるうえで役立つノウハウも提供しています。

製造、生産技術、設備技術、金型技術、試作、実験、製品開発、設計、環境管理、安全、品質管理、営業、貿易、経理、購買調達、資材、生産管理、在庫管理、物流など製造業に関わりのあるさまざまな仕事や調べものの一助になれば幸いです。

工業情報リンク集

工業分野のメーカーや商社を中心に、技術、規格、ものづくりに広く関わりのあるリンクを集めています。工業製品の生産に必要とされる加工技術や材料に関する知識、マーケティングから製品企画、開発、販売戦略、輸出入、物流、コスト低減、原価管理等、事業運営に必要な知識には共通項があります。

研磨、研削、砥石リンク集