成膜装置の種類

2012年4月7日更新

薄膜は、物体の表面に高い機能性を付与するために、現在の産業界では不可欠の存在となっていますが、この「膜」の品質やどのような機能、物性を持つかという部分は、薄膜の材料だけでなく、成膜装置とその膜をつける技術に大きく左右されます。

薄膜の材料は、誘電体膜であれ、金属膜であれ、ほとんどは金属か、酸化物、フッ化物、窒化物、炭化物などですが、これらの材料そのものはここ30年であまり大きくは変わっていません。新しい材料というのは、たいていの場合は今ある材料を二つか、それ以上組み合わせて作られた混合材料です。

代表例としては、ZrO2の不均質の問題を解決するためにTiO2等を混合したものや、TiO2に匹敵する高屈折率を実現するために、これらにさらに別の物質を混合した例などがあります。

成膜装置はその手法と表裏一体であり、一台で複数の手法が実現できるものはありません。分類としては、成膜手法に呼応してPVD用、CVD用があります。

  • 真空蒸着装置
  • スパッタリング装置
  • 熱CVD装置
  • MOCVD装置

薄膜の特性【参考】

主として光学膜や機能膜として用いられる薄膜の代表的な特性、物性について紹介します。

酸化物の薄膜

フッ化物の薄膜

窒化膜

炭化膜

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